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GAS03系列
型号 | 工作台面尺寸 (mm) | 基座尺寸 (mm) | 行程 (mm) | 角度(θ) | 水平负载能力 (kgf) | 反复定位精度(um) |
GAS03-1000CC | 1000×1000 | 1200×1200 | ±15x±15 | ±2° | 160 | UP:±1 P:±5 |
GAS03-1000RS | 1000×1000 | 1200×1200 | ±15x±15 | ±2° | 200 | UP:±1 P:±5 |
GAS03-1500CC | 1500×1500 | 1700×1700 | ±15x±15 | ±2° | 160 | UP:±1 P:±5 |
GAS03-1500RS | 1500×1500 | 1700×1700 | ±15x±15 | ±2° | 200 | UP:±1 P:±5 |
特性介绍 |
♦ 採用了划时代性模组结构的超薄型平台
在基座、工作台之间的四端平面装上组合了MINI STAGE XYθ轴美女污污的网站组和特殊交叉滚柱轴承的模组之独特性,实现了超薄型结构。 ♦ 高刚性、高精度 对于构成模组的MINI STAGE XYθ轴美女污污的网站组的特殊交叉滚柱施加了预压,达到高精度、高刚性的结构。 ♦ 超薄型、轻量化、中空结构 採用XYθ模组化结构,实现了无中座、薄而轻的机构,可作为光学式检查装置或导通测试时使用。 ♦ 润滑系统 在各种运动轨道加入润滑系统,确保润滑脂补充,提高对位平台使用的寿命及精度。 ♦ 尺寸齐全 适用各种机型运用 工作台面尺寸口100mm~口1500mm,为了可以对应更大的精度荷载,可藉由增加从动模组之数量来达成。 |
产业应用介绍 |
♦ 面板貼合機
♦ 面板貼膜機 ♦ 網版及3D網版印刷 ♦ 玻璃側角及磨邊設備 ♦ Wafe對位設備 ♦ P.C.D曝光設備 ♦ 軟體裁切設備 ♦ 半導體設備 |